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Dünnschichttechnik - Einzelansicht

  • Funktionen:
Grunddaten
Veranstaltungsart Vorlesung Langtext
Veranstaltungsnummer 2413036 Kurztext
Semester SoSe 2019 SWS 2.0
Erwartete Teilnehmer/-innen 10 Max. Teilnehmer/-innen 10
Rhythmus jedes 2. Semester Studienjahr
Credits Belegung Keine Belegpflicht
Hyperlink  
Sprache deutsch
Termine iCalendar Export für Outlook
  Tag Zeit Rhythmus Dauer Raum Raum-
plan
Lehrperson Status fällt aus am Max. Teilnehmer/-innen
Einzeltermine anzeigen
iCalendar Export für Outlook
Fr. 10:45 bis 12:15 woch 12.04.2019 bis 19.07.2019  HS 66.919 Bakin     10
 


Zugeordnete Person
Zugeordnete Person Zuständigkeit
Bakin, Andrey , apl. Prof. Dr. verantwortlich
Zuordnung zu Einrichtungen
Institut für Halbleitertechnik
Inhalt
Kommentar −grundlegendes Verständnis der wichtigsten Verfahren zur Modellierung, Herstellung und Charakterisierung von Dünnschichten (Halbleiter, Nichtleiter, Metallschichten) −die Prinzipien modernster Dünnschichttechnik zu erkennen und ihre Wirkungsweisen zu verstehen −Fähigkeit zur Auswahl geeigneter Fertigungsverfahren für die Realisierung von nano-, opto-, magneto- und mikro-elektronischen Strukturen −eingehende Kenntnisse und praktische Erfahrung bei Entwicklung und Optimierung von Dünnschichttechniken für neue Materialien und Nanoheterostrukturen −Einschätzung und Bewertung von Einsatzmöglichkeiten unterschiedlicher Dünnschichttechnikverfahren −Darüber hinaus können die Studierenden Trends in Dünnschichttechnik-Entwicklungen und nanoelektronischen, optoelektronischen und magnetoelektronischen Heterostrukturenherstellung analysieren und extrapolieren
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