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Dünnschichttechnik - Einzelansicht

  • Funktionen:
Grunddaten
Veranstaltungsart Übung Langtext
Veranstaltungsnummer 2413043 Kurztext
Semester SoSe 2019 SWS 1.0
Erwartete Teilnehmer/-innen 0 Max. Teilnehmer/-innen 0
Rhythmus jedes 2. Semester Studienjahr
Credits Belegung Keine Belegpflicht
Hyperlink  
Sprache deutsch
Termine iCalendar Export für Outlook
  Tag Zeit Rhythmus Dauer Raum Raum-
plan
Lehrperson Status fällt aus am Max. Teilnehmer/-innen
Einzeltermine anzeigen
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Fr. 12:15 bis 13:00 woch 12.04.2019 bis 19.07.2019  HS 66.919 Bakin    
 


Zugeordnete Person
Zugeordnete Person Zuständigkeit
Bakin, Andrey , apl. Prof. Dr. verantwortlich
Zuordnung zu Einrichtungen
Institut für Halbleitertechnik
Inhalt
Kommentar Definitionen, Schichtsysteme, Legierungen und Verbindungen. Wachstumsmodell: Adsorption, Lebensdauer adsorbierter Species, Haftkoeffizient (sticking coefficient), Oberflächendiffusion, Chemosorption, Nukleation, Koaleszenz, reale Oberflächen, Oberflächenpassivierung, Oberflächenenergie, Wachstumsmodi. Epitaxie und Abscheidung: Schichtmorphologie, Texturierung, Vakuumanforderungen, Konvektion, Diffusion, Molekularfluss, Kollisionsquerschnitt, freie Weglänge. Aufdampfen: Thermodynamik, Aufdampfen von Legierungen und Verbindungen. Molekularstrahlepitaxie, Knudsen-Zelle. Kathodenzerstäubung (Sputtern), Ionisationsmechanismen, HF-Sputtern, Magnetronsputtern, reaktives Sputtern, Ionenstrahl-Sputtern. Chemischen Gasphasen-Abscheidung (CVD): Reaktionen, Thermodynamik und Kinetik der CVD, unterschiedliche Typen von CVD: LPCVD, PECVD, MOCVD, ALD. Galvanik. Langmuir-Blodget-Schichten. Monitoring und Kontrolle der Schichtabscheidung. Heterostrukturen, Übergittern, Nanostrukturen. Anwendungen von Dünnschichttechniken in Nano-, Opto-, Magnetoelektronik, Spintronik und Ausblick.
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