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Wachstum von duennen Schichten - Einzelansicht

  • Funktionen:
Grunddaten
Veranstaltungsart Vorlesung/Übung Langtext
Veranstaltungsnummer 1520051 Kurztext Wachstum
Semester SoSe 2019 SWS 3.0
Erwartete Teilnehmer/-innen 10 Max. Teilnehmer/-innen 10
Rhythmus jedes 2. Semester Studienjahr
Credits Belegung Keine Belegpflicht
Hyperlink  
Sprache deutsch
Termine iCalendar Export für Outlook
  Tag Zeit Rhythmus Dauer Raum Raum-
plan
Lehrperson Status fällt aus am Max. Teilnehmer/-innen
Einzeltermine anzeigen
iCalendar Export für Outlook
Do. 10:30 bis 13:00 woch 04.04.2019 bis 18.07.2019  Mendelssohnstraße 2 - 3 (2415) - 2415.01.142 - MS 2.142 Raumplan Rossow     10
 


Zugeordnete Person
Zugeordnete Person Zuständigkeit
Rossow, Uwe , PD Dr. verantwortlich
Zuordnung zu Einrichtungen
Institut für Angewandte Physik
Inhalt
Kommentar Dünne Schichten und Nanostrukturen bilden die Basis elektronischer und optoelektronischer Bauelemente. In vielen anderen Bereichen werden aber dünne Schichten ebenfalls verwendet wie z.B. bei der Entspiegelung von Gläsern oder magnetische Schichten in Datenträgern. Schwerpunkt der VL werden die Herstellungmethoden wie moderne epitaktische Verfahren sein sowie die in-situ Kontrolle des Wachstums mittels optischer und anderer Methoden.
Literatur Wird in der Veranstaltung bekanntgegeben.
Bemerkung Stichworte: Epitaxie, Methoden, Halbleiter, in-situ Diagnostik, Defekte
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